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高純亞納米級超細硅酸鋯粉的研磨工藝

申請號/專利號: 200810195504
本發明提供一種高純亞納米級超細硅酸鋯粉的研磨工藝,先采用濕法球磨方法,選用Φ10~Φ15mm同質硅酸鋯球作磨球,將鋯英砂磨至3~5μm;然后選用Φ1~3mm的同質硅酸鋯球作磨球,在轉速100~300rpm的攪拌磨中將上述鋯英砂進行兩次研磨,研磨至0.8~1.0μm;再選用Φ0.5~1mm的同質硅酸鋯球作磨球,在轉速500~1000rpm的攪拌磨中將上述鋯英砂再進行兩次研磨,研磨至0.45~0.55μm。其研磨效率較高,產品能耗低,所得高純亞納米級超細硅酸鋯粉,在陶瓷行業使用量比普通同類粉體下降20~40%,值得在業內推廣。
申請日: 2008年10月15日
公開日: 2010年06月09日
授權公告日:
申請人/專利權人: 許興康
申請人地址: 江蘇省蘇州市吳中區光福鎮光福工業園(南區)蘇州化聯高新陶瓷材料有限公司內
發明設計人: 許興康
專利代理機構: 南京蘇科專利代理有限責任公司
代理人: 陳忠輝
專利類型: 發明專利
分類號:
B02C17/16;B02C17/20
標簽:超細磨    高純亞納米級超細硅酸鋯粉的研磨工藝
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