高純亞納米級超細硅酸鋯粉的研磨工藝
申請號/專利號: 200810195504
本發明提供一種高純亞納米級超細硅酸鋯粉的研磨工藝,先采用濕法球磨方法,選用Φ10~Φ15mm同質硅酸鋯球作磨球,將鋯英砂磨至3~5μm;然后選用Φ1~3mm的同質硅酸鋯球作磨球,在轉速100~300rpm的攪拌磨中將上述鋯英砂進行兩次研磨,研磨至0.8~1.0μm;再選用Φ0.5~1mm的同質硅酸鋯球作磨球,在轉速500~1000rpm的攪拌磨中將上述鋯英砂再進行兩次研磨,研磨至0.45~0.55μm。其研磨效率較高,產品能耗低,所得高純亞納米級超細硅酸鋯粉,在陶瓷行業使用量比普通同類粉體下降20~40%,值得在業內推廣。
| 申請日: |
2008年10月15日 |
| 公開日: |
2010年06月09日 |
| 授權公告日: |
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| 申請人/專利權人: |
許興康 |
| 申請人地址: |
江蘇省蘇州市吳中區光福鎮光福工業園(南區)蘇州化聯高新陶瓷材料有限公司內 |
| 發明設計人: |
許興康 |
| 專利代理機構: |
南京蘇科專利代理有限責任公司 |
| 代理人: |
陳忠輝 |
| 專利類型: |
發明專利 |
| 分類號: |
B02C17/16;B02C17/20 |