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濺射靶、濺射靶-背襯板組裝體以及成膜裝置

申請號/專利號： 200580039413
一種濺射靶，是形成有腐蝕部以及非腐蝕部的板狀靶，其特征在于，其表面積超過當假定靶為平面時的表面積的１００％，并且低于１２５％。一種濺射靶，是形成有腐蝕部以及非腐蝕部的板狀靶，其特征在于，在靶表面區域具有１個或多個凹部，靶的表面積超過當假定靶為平面時的表面積的１００％，并且低于１２５％。通過進行自濺射或高功率濺射，在靶的全部壽命中，通過將濺射電路中的電壓變動控制為盡可能小，從而可使用容量較小、價廉的電源裝置。
申請日： 2005年10月14日
公開日： 2007年10月31日
授權公告日：
申請人/專利權人： 日礦金屬株式會社
申請人地址： 日本東京都
發明設計人： 宮下博仁
專利代理機構： 中原信達知識產權代理有限責任公司
代理人： 樊衛民 郭國清
專利類型： 發明專利
分類號：
C23C14/34
標簽：襯板    濺射靶、濺射靶-背襯板組裝體以及成膜裝置
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