一種離心噴霧造粒機(jī)霧化盤
申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào): 200720105588
一種離心噴霧造粒機(jī)霧化盤,包括上端圓盤、下端圓盤,以及連接在上下圓盤之間的連接柱,所述連接柱為一π形柱體,均勻相隔沿上下圓盤邊緣連接在兩圓盤之間,組合構(gòu)成側(cè)面帶圓形孔的霧化盤。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是霧化盤側(cè)面設(shè)置的孔呈圓弧狀、π狀或橢圓形狀,使鐵氧體顆粒料容易制成小顆粒、表面光滑,不容易產(chǎn)生蝌蚪形。因此可以滿足微型鐵氧體的成型顆粒料特殊要求:顆粒料粒徑特別小、顆粒分布相對(duì)集中度高、顆粒料流動(dòng)性特別好,松裝比重一致性特別好。由此解決了微型鐵氧體成型難(料重一致性難控制)、毛坯強(qiáng)度一致性差及小產(chǎn)品尺寸一致性差的老大難問題。
| 申請(qǐng)日: |
2007年01月16日 |
| 公開日: |
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| 授權(quán)公告日: |
2008年01月09日 |
| 申請(qǐng)人/專利權(quán)人: |
橫店集團(tuán)東磁股份有限公司 |
| 申請(qǐng)人地址: |
浙江省東陽市橫店工業(yè)區(qū)東磁有限公司 |
| 發(fā)明設(shè)計(jì)人: |
陳軍林;鳳晶生 |
| 專利代理機(jī)構(gòu): |
杭州杭誠專利事務(wù)所有限公司 |
| 代理人: |
尉偉敏 |
| 專利類型: |
實(shí)用新型專利 |
| 分類號(hào): |
B01J2/02 |